基本信息
标准名称: | 硅片弯曲度测试方法 |
英文名称: | Test methods for bow of silicon wafers |
中标分类: | 冶金 >> 半金属与半导体材料 >> 半金属与半导体材料综合 |
ICS分类: | 电气工程 >> 半导体材料 |
替代情况: | 替代GB/T 6619-1995 |
发布部门: | 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会 |
发布日期: | 2009-10-30 |
实施日期: | 2010-06-01 |
首发日期: | 1985-06-17 |
作废日期: | |
主管部门: | 国家标准化管理委员会 |
提出单位: | 全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC203) |
归口单位: | 全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会 |
起草单位: | 洛阳单晶硅有限责任公司 |
起草人: | 刘玉芹、蒋建国、冯校亮、张静雯 |
出版社: | 中国标准出版社 |
出版日期: | 2010-06-01 |
页数: | 12页 |
计划单号: | 20065632-T-469 |
书号: | 155066·139560 |
适用范围
本标准规定了硅单晶切割片?研磨片?抛光片(以下简称硅片)弯曲度的接触式测量方法?
本标准适用于测量直径不小于25mm,厚度为不小于180μm,直径和厚度比值不大于250的圆形硅片的弯曲度?本测试方法的目的是用于来料验收和过程控制?本标准也适用于测量其他半导体圆片
弯曲度?
前言
没有内容
目录
没有内容
引用标准
GB/T2828.1 计数抽样检验程序 第1部分:按接收质量限(AQL)检索的逐批检验抽样计划(GB/T2828.1-2003,ISO28591:1999,IDT)
GB/T14264 半导体材料术语
所属分类: 冶金 半金属与半导体材料 半金属与半导体材料综合 电气工程 半导体材料